Nato a: Hong Kong il 6 marzo 1978.
Attuale residenza: hong kong (China).
Attività: Pittura; Fotografia; Grafica Digitale; Animazione; Tecnica Mista; Performance;
PREFERITI
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Nato a: Hong Kong il 6 marzo 1978.
Attuale residenza: hong kong (China).
Attività: Pittura; Fotografia; Grafica Digitale; Animazione; Tecnica Mista; Performance;
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